[发明专利]曝光方法、曝光装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201811146185.1 | 申请日： | 2012-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109164682B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 大和壮一;渡边阳司 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟;王娟娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，使用经过了多个光学元件的曝光用光曝光物体，其特征在于，包括：将所述多个光学元件中的、第1区域内的光学元件设定为第1状态并射出第1相位的曝光用光；将所述多个光学元件中的、第2区域内的光学元件设定为与所述第1状态不同的第2状态，并射出与所述第1相位不同的第2相位的曝光用光，其中，所述第2区域位于所述第1区域的第1方向侧；以及将所述第1区域与所述第2区域之间的第3区域内的多个光学元件中的、沿与所述第1方向交叉的第2方向存在的多个第1部分设定为所述第1状态并射出所述第1相位的曝光用光，而且将位于所述第1部分的所述第2方向侧的光学元件的第2部分设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光。
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