[发明专利]像素结构有效

专利信息
申请号: 201811127096.2 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN108986738B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 郑贸薰;洪嘉泽;陈勇志;蔡正晔;黄正翰;林振祺 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G09G3/32 分类号: G09G3/32;G09G3/00;G09F9/33
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种像素结构,包括第一薄膜晶体管、粘着层、发光二极管以及检测导电层。第一薄膜晶体管耦接至一导电层,用以传送显示数据至导电层。粘着层覆盖导电层。发光二极管配置在粘着层上。检测导电层配置在粘着层上,并且检测导电层、粘着层上以及导电层形成检测电容。其中,检测导电层的厚度等于或略大于发光二极管的高度。
搜索关键词: 像素 结构
【主权项】:
1.一种像素结构,其特征在于,包括:一第一薄膜晶体管,具有一第一端耦接至一导电层,用以传送一显示数据至该导电层;一粘着层,配置于该导电层;一发光二极管,配置在该粘着层上;以及一检测导电层,配置在该粘着层上,其中该检测导电层、该粘着层以及该导电层形成一检测电容,其中,该检测导电层的厚度等于或略高于该发光二极管的高度。
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