[发明专利]一种CrB2

摘要

本发明公开了一种CrB2涂层的制备方法，属于表面强化技术领域。采用直流磁控溅射法，设计靶源磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，通过对靶源磁场的设计，使靶面不同位置具有不同的磁场强度，并对应的放置一系列样品，在各样品表面沉积CrB2涂层，然后对各涂层进行性能检测，得到与所需CrB2涂层性能最接近的CrB2样品涂层，该样品在样品架上的放置位置即为待沉积基体的放置位置，从而实现所需性能涂层的制备。

主权项

1.一种CrB2涂层的制备方法，以氩气作为溅射气体，采用直流磁控溅射方法在基体表面沉积CrB2涂层；其特征是：磁控靶材为CrB2靶材，靶面平整，靶面底部设置磁场；所述磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，直线型磁铁位于环形磁铁内部并且平行于环形磁铁；沿着所述环形磁铁的环形方向，所述环形磁铁的磁场强度相等；沿着所述直线型磁铁的长度方向，所述直线型磁铁的磁场强度自中间向两边逐渐减小；所述制备方法包括如下步骤：(1)准备若干尺寸相同的基体样品，将各样品放置在样品架上，各样品表面位于同一平面并且各样品表面平行于所述靶面；并且，各样品正对所述直线型磁铁，形成直线排列；(2)开启直流磁控溅射设备，在各样品表面沉积CrB2涂层；对各样品表面沉积的CrB2涂层进行性能检测，得到与所需CrB2涂层性能最接近的CrB2样品涂层，该样品在样品架上的放置位置为A位置；(3)保持直流磁控溅的条件一致，保持样品架不动，将待沉积基体放置在样品架的A位置进行CrB2涂层沉积。