[发明专利]一种基于微透镜阵列的图文防伪结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811115548.5 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN109285439B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 杨志方;牟靖文;何亮;葛宏伟;寇倩倩 申请(专利权)人: 武汉华工图像技术开发有限公司
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02;G02B3/00
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 李佑宏
地址: 430023 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于微透镜阵列的图文防伪结构,包括依次层叠设置的基材层、微图文层和背胶层,所述微图文层包括依次层叠的结构层、金属层和油墨层,结构层一侧紧邻基材层,另一侧设置有含有图文信息的凹凸结构,凹凸结构的凹陷面(凸起面)上附有铝层,油墨层紧邻凹凸结构的凸起面(凹陷面)设置,并与凹陷面(凸起面)的铝层相贴合,铝层与油墨层相互对比凸显出结构层的图文结构,形成在凹凸结构中局部镀铝的镂空效果。本发明还公开了该图文防伪结构的制备方法。本发明技术方案针对目前微图文结构印刷效果差的情况,采用两级凹凸结构设计,且采用不同的涂层对凹凸结构进行对比突出,结合微透镜阵列,有效提高了图文防伪薄膜的安全性能。
搜索关键词: 一种 基于 透镜 阵列 图文 防伪 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于微透镜阵列的图文防伪结构的制备方法,其特征在于,包括,S1将UV固化材料或热塑性树脂涂料均匀涂布在基材层一侧,在该涂层上通过UV压印或热压印的方式,压印出均匀分布的、包含有图文信息的凹凸结构,形成结构层;S2在凹凸结构的凸起面上均匀地涂布一层挥发层,凹陷面上不涂布挥发层,所述挥发层由挥发性物质涂布形成,具有挥发性;S3在结构层凹凸结构的上沉积金属层,其中没有硅油的区域沉积有金属层,涂布有硅油的区域不沉积金属层,以获取凹陷面沉积金属层、凸起面不沉积金属层的镂空结构;S4在金属层的基础上满版印刷油墨层,赋予没有金属层覆盖的结构层以颜色,从而在基材层一侧可以观察到结构层、金属层和油墨层共同形成具有颜色的、边缘清晰的图文信息结构;S5在油墨层上制备背胶层,获得图文防伪结构。
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