[发明专利]晶圆校准装置及应用其的光刻机有效

专利信息
申请号: 201811098449.0 申请日: 2018-09-20
公开(公告)号: CN109283807B 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 张成安;魏纯;肖乐 申请(专利权)人: 矽电半导体设备(深圳)股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518172 广东省深圳市龙岗区龙城街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及晶圆校准技术领域,更具体地说,它涉及一种晶圆校准装置及应用其的光刻机,其技术方案要点是:一种晶圆校准装置,其包括机架,所述机架上设有承载台、晶圆中心校准装置和晶圆平边校准装置;所述承载台,用于承载晶圆;所述晶圆中心校准装置,用于对承载台上晶圆的中心进行校准;所述晶圆平边校准装置,用于对承载台上晶圆的平边进行校准。根据本发明提供的技术方案,晶圆中心校准装置可以对承载台上晶圆的中心进行校准,晶圆平边校准装置可以对承载台上晶圆的平边进行校准,晶圆中心校准装置和晶圆平边校准装置两者配合,可以实现对晶圆的中心和平边均进行校准,可满足晶圆的准确定位和高效生产。
搜索关键词: 校准 装置 应用 光刻
【主权项】:
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