[发明专利]晶圆校准装置及应用其的光刻机有效
申请号: | 201811098449.0 | 申请日: | 2018-09-20 |
公开(公告)号: | CN109283807B | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 张成安;魏纯;肖乐 | 申请(专利权)人: | 矽电半导体设备(深圳)股份有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518172 广东省深圳市龙岗区龙城街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及晶圆校准技术领域,更具体地说,它涉及一种晶圆校准装置及应用其的光刻机,其技术方案要点是:一种晶圆校准装置,其包括机架,所述机架上设有承载台、晶圆中心校准装置和晶圆平边校准装置;所述承载台,用于承载晶圆;所述晶圆中心校准装置,用于对承载台上晶圆的中心进行校准;所述晶圆平边校准装置,用于对承载台上晶圆的平边进行校准。根据本发明提供的技术方案,晶圆中心校准装置可以对承载台上晶圆的中心进行校准,晶圆平边校准装置可以对承载台上晶圆的平边进行校准,晶圆中心校准装置和晶圆平边校准装置两者配合,可以实现对晶圆的中心和平边均进行校准,可满足晶圆的准确定位和高效生产。 | ||
搜索关键词: | 校准 装置 应用 光刻 | ||
【主权项】:
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