[发明专利]阳离子填料处理剂在审
| 申请号： | 201811082289.0 | 申请日： | 2018-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN109518523A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 木村雄;丸山悠花;久保田奈央子;藤田幸裕 | 申请（专利权）人： | 索马龙株式会社 |
| 主分类号： | D21H17/69 | 分类号： | D21H17/69 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够提高填料产率并降低浊度的阳离子填料处理剂及其制造方法，使用该阳离子填料处理剂处理的填料及纸的制造方法。即，含有(A)环氧卤丙烷、(B)烷基胺和(C)交联单体的共聚物的阳离子填料处理剂及其制造方法；一种使用该阳离子填料处理剂处理的填料及纸的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 填料处理剂 阳离子 制造 环氧卤丙烷 交联单体 共聚物 烷基胺 产率 浊度 | ||
【主权项】：
1.一种阳离子填料处理剂，其特征在于，含有(A)环氧卤丙烷、(B)烷基胺以及(C)交联单体的共聚物。
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