[发明专利]光化学反应槽用温控光源装置及该光化学反应槽在审
| 申请号： | 201811030788.5 | 申请日： | 2018-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN110876915A | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 杨之逸 | 申请（专利权）人： | 捷微科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/12 | 分类号： | B01J19/12;B01J19/00 |
| 代理公司： | 上海中优律师事务所 31284 | 代理人： | 潘诗孟 |
| 地址： | 中国台湾新北市新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光化学反应槽用温控光源装置，供设置于一光化学反应槽中，并供导接至一温控装置，前述光化学反应槽在进行任一光化学反应时，各自存在有一适当反应温度，该温控光源装置包括：一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体；上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体；及复数个分别导热连接上述温控流体的电路基板，每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件，前述发光件具有一位于上述预定波长范围的主发光波长以及一操作极限温度。此外，本发明还公开了具有温控光源装置的光化学反应槽。 | ||
| 搜索关键词： | 光化学 反应 温控 光源 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于捷微科技股份有限公司，未经捷微科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811030788.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
