[发明专利]一种单分子磁体阴离子框架材料及合成方法在审
申请号: | 201811027599.2 | 申请日: | 2018-09-04 |
公开(公告)号: | CN109232617A | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 唐群;杨琰莉;张宁;胡嘉议;莫其辉;邹志明;张淑芬;梁福沛 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
主分类号: | C07F5/00 | 分类号: | C07F5/00;C08G83/00;H01F1/42 |
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地址: | 541004 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明公开了一种单分子磁体阴离子框架材料及合成方法。阴离子框架材料化学式为{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n,分子式为:C6NH16DyO12,分子量为:456.69g/mol。将碳酸镝和二水合草酸分别加入蒸馏水,而后将两者混合,并加N,N‑二甲基甲酰胺,搅拌,控制pH在3,置于140℃的烘箱恒温四天,降温。利用Debye拟合方程计算该化合物能垒和弛豫时间,其最佳拟合结果为Ueff≈6.6K,τ0≈2.11×10‑13s,证明该阴离子框架材料具有单分子磁体性质。本发明具有工艺简单、化学组分易于控制、重复性好等优点。 | ||
搜索关键词: | 框架材料 阴离子 单分子磁体 蒸馏水 合成 烘箱 二甲基甲酰胺 拟合方程 水合草酸 最佳拟合 碳酸镝 弛豫 能垒 | ||
【主权项】:
1.一种单分子磁体阴离子框架材料,其特征在于单分子磁体阴离子框架材料化学式为{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n,其中:CH3)2NH2+为质子化二甲基胺阳离子,ox2‑为草酸根;分子式为:C6NH16DyO12,分子量为:456.69;晶体结构数据见表一,部分键长键角见表二;该阴离子框架属于单斜晶系,P21/n空间群,中心金属离子为Dy3+;在外加磁场为2000Oe和温度范围是2.0‑300K的条件下,测定了阴离子框架材料{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n的变温磁化率;随着温度的降低,该化合物的磁化率也随之减小,说明了Dy3+之间具有反铁磁性作用;利用Debye拟合方程计算阴离子框架的能垒和弛豫时间,其最佳拟合结果为Ueff≈6.6K,τ0≈2.11×10‑13s,这说明该阴离子框架材料具有单分子磁体性质;表一:{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n的晶体参数![]()
aR1=Σ||Fo|–|Fc||/Σ|Fo|.bwR2=[Σw(|Fo2|–|Fc2|)2/Σw(|Fo2|)2]1/2表二:{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n的键长
和键角(°)
Symmetry codes:(i)‑x+1/2,y‑1/2,‑z+3/2;(ii)‑x+1/2,y+1/2,‑z+3/2;(iii)‑x,‑y+1,‑z+2;(iv)‑x+1,‑y+1,‑z+2。
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