[发明专利]一种可见和近红外光谱的背景和参考自动校正系统及校正方法有效
| 申请号： | 201811011431.2 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN108982389B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 王琦;吴跃进;刘晶;范爽;徐琢频;刘斌美;余立祥;倪晓宇;杨阳;杨叶;詹玥 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31;G01N21/359;G01N21/01 |
| 代理公司： | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 | 代理人： | 张景云 |
| 地址： | 230031 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供的一种可见和近红外光谱的背景和参考自动校正系统，包括光源单元、信号收集机构、背景校正模块、参考光谱校正模块。样品位于光源单元正下方，背景校正模块位于标准参考光谱校正模块的正上方，背景和标准参考校正都是通过电磁铁的通电产生磁力带动对应校正单元移动来实现。本发明提供一种可见和近红外光谱的背景和参考自动校正系统，实现可见光和近红外漫反射光谱的自动校正；该发明可采用全封闭结构，消除了外界环境对探头的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可见 红外 光谱 背景 参考 自动 校正 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可见和近红外光谱的背景和参考自动校正系统，其特征在于：包括背景校正模块、参考光谱校正模块、光源单元；所述光源单元处于背景校正模块的上方，所述背景校正模块处于参考光谱校正模块的正上方，样品处于参考光谱校正模块的下方且处于光源单元的正下方；所述背景校正模块包括背景校正单元、第一导向轨道、第一驱动机构；所述背景校正单元固定在第一导向轨道上，并由第一驱动机构驱动其沿第一导向轨道往复移动，并能移动到光源单元的正下方；所述参考光谱结构包括参考校正单元、第二导向轨道、第二驱动机构；所述参考校正单元固定在第二导向轨道上，并由第二驱动机构驱动其沿第二导向轨道往复移动，并能移动到光源单元的正下方。
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