[发明专利]边缘像素显示方法、系统、存储设备和显示装置有效
| 申请号： | 201811002194.3 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109256076B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 杨毅;李伟;陈家兴;杨华旭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G09G3/20 | 分类号： | G09G3/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 汪源;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种边缘像素显示方法、系统、存储设备和显示装置，包括：选取整数个边缘像素内的全部亚像素构成待调整亚像素集合，待调整亚像素集合中的每一个亚像素作为一个待调整亚像素；获取待调整亚像素集合内各待调整亚像素的透光区的原始亮度；计算各待调整亚像素的实际出光区域的理想目标亮度；根据各待调整亚像素的实际出光区域的理想目标亮度确定各待调整亚像素的实际出光区域的最终目标亮度；根据各待调整亚像素的实际出光区域的最终目标亮度，控制各待调整亚像素进行显示。本发明的技术方案可对异形显示区域中的边缘像素的亮度进行调整，能有效改善、甚至消除边缘像素的色偏问题。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 像素 显示 方法 系统 存储 设备 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种边缘像素显示方法，其特征在于，所述边缘像素包括若干个亚像素，所述亚像素包括：透光区和不透光区，所述边缘像素中的至少一个亚像素的透光区的部分区域被遮光图形覆盖，所述透光区未被覆盖的区域为实际出光区域，所述边缘像素显示方法包括：选取整数个所述边缘像素内的全部所述亚像素构成待调整亚像素集合，所述待调整亚像素集合中的每一个亚像素作为一个待调整亚像素；获取所述待调整亚像素集合内各所述待调整亚像素的透光区的原始亮度；计算各所述待调整亚像素的实际出光区域的理想目标亮度，所述待调整亚像素的实际出光区域的理想目标亮度等于该待调整亚像素的透光区的原始亮度与该待调整亚像素的相对透过率之比，其中所述待调整亚像素的相对透过率等于其实际出光区域的面积与透光区的面积之比；根据各所述待调整亚像素的实际出光区域的理想目标亮度确定各所述待调整亚像素的实际出光区域的最终目标亮度，所述最终目标亮度小于或等于预设最大表现亮度；根据各所述待调整亚像素的实际出光区域的所述最终目标亮度，控制各所述待调整亚像素进行显示。
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