[发明专利]一种用于抛光玻璃的稀土抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 201810995131.6 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN108864949B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 周利虎;刘宇杰;宋军 | 申请（专利权）人： | 德米特(苏州)电子环保材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 汪青;向亚兰 |
| 地址： | 215200 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光玻璃的稀土抛光液及其制备方法，包括：磨料、表面活性剂、分散剂、pH值调节剂和水，磨料包括平均粒径依次降低的第一研磨剂、第二研磨剂和第三研磨剂；第一研磨剂由平均粒径d1的二氧化铈构成，1＜d1≤3.5μm，第二研磨剂由平均粒径d2的二氧化铈和二氧化锆构成，0.5＜d2≤1μm，第三研磨剂由平均粒径d3的二氧化铈、二氧化锆和二氧化硅构成，0＜d3≤0.5μm；制备：将第一研磨剂加至部分水中，加入部分分散剂和表面活性剂，得混合液，加入第二研磨剂，加入第三研磨剂、剩余分散剂和表面活性剂，加入pH值调节剂和水，制得；本发明兼具高切削量、高表面质量且可降低有机物的使用，对环境友好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 玻璃 稀土 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于抛光玻璃的稀土抛光液，包括磨料、表面活性剂、分散剂、pH值调节剂和水，其特征在于，所述磨料包括平均粒径依次降低的第一研磨剂、第二研磨剂和第三研磨剂；其中，所述第一研磨剂由平均粒径大于1μm小于等于3.5μm的二氧化铈构成，所述第二研磨剂由平均粒径分别大于0.5μm小于等于1μm的二氧化铈和二氧化锆构成，所述第三研磨剂由平均粒径分别大于零小于等于0.5μm的二氧化铈、二氧化锆和二氧化硅构成。
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