[发明专利]具备防振装置的曝光装置在审

专利信息
申请号: 201810948194.6 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN109031895A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 佐藤真路 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;王娟娟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种曝光装置,经由光学部件(13)与基板(P)之间的液体(LQ)以曝光用光对基板进行曝光,该曝光装置具备装置框架(8B)、包括光学部件的光学系统、包括配置于光学部件周围的至少一部分的第1部件(21)和配置于光学部件周围的至少一部分的第2部件(22)并且能够形成液浸空间的液浸部件(5)、能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置(56),和防振装置(55),经由防振装置(55)将第1部件支承于装置框架。
搜索关键词: 光学部件 防振装置 曝光装置 装置框架 部件移动 光学系统 曝光用光 驱动装置 液浸空间 对基板 基板 液浸 支承 配置 曝光
【主权项】:
1.一种曝光装置,经由光学部件与基板之间的液体以曝光用光对所述基板进行曝光,该曝光装置具备:装置框架;光学系统,其包括所述光学部件;液浸部件,其能够形成液浸空间,并且包括配置于所述光学部件周围的至少一部分的第1部件、和配置于所述光学部件周围的至少一部分的第2部件;驱动装置,其能够使所述第2部件相对于所述第1部件移动;和防振装置,经由所述防振装置而使所述第1部件支承于所述装置框架。
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