[发明专利]一种链黑菌素化合物提取工艺中设备参数控制系统及方法

摘要

本发明属于医药制备技术领域，公开了一种链黑菌素化合物提取工艺中设备参数控制系统及方法，控制系统包括：供电模块、温度检测模块、湿度检测模块、摄像模块、主控模块、清洗模块、克隆模块、失活模块、发酵模块、显示模块；同时公开一种控制方法。本发明通过清洗模块分析两部分的目标物品第一次清洗后的效果来判断第一次清洗的效率以及两部分目标物品的洁净程度，再根据两部分目标物品的洁净程度来制定第二次清洗方案，实现对目标物品高效率的清洗，对复杂背景下的图像进行纹理分析，能提供更准确的特征信息，提高制备链黑菌素化合物质量。

主权项

1.一种链黑菌素化合物提取工艺中设备参数控制方法，其特征在于，所述链黑菌素化合物提取工艺中设备参数控制方法包括：检测控制链黑菌素化合物提取工艺中环境温度、湿度数据；环境温度采集控制中，引入粒子群优化算法进行PID参数的合理优化；假定Xit为t时刻第i个粒子的位置，Vit为t时刻第i个粒子的速度，Sit为t时刻第i个粒子的最优位置；Stg为t时刻的全局位置，则则粒子i在t+1时刻的位置描述为式中：为t时刻第i个粒子在第D维空间的度，为t时刻第i个粒子在第D维空间的最优位置，为t时刻第i个粒子在第D维空间的位置，r1、r2为分布在(0，1)区间的两个独立随机数；c1、c2为学习因子，w为惯性权重；采集链黑菌素化合物提取过程图像数据；提取链黑菌素化合物过程图像数据中利用求解互信息的联合直方图法，重新定义联合直方图中的h(e，g)以及粒子的速度和位移更新公式，进行链黑菌素化合物过程图像数据预处理；粒子的速度和位移更新公式：其中，v表示粒子速度，t表示时间，i表示第i个粒子，j表示第j个路径，w是惯性权重，c₁、c₂表示学习因子，p_i,j表示第i个粒子经历过的最好位置，p_g,j表示群体所有微粒经历过的最好位置，其中e，g分别为待匹配路径和模板路径，h(e，g)表示在最优路径e出现的位置上，在历史路径相应的位置g出现的次数；通过粒子的速度和位移更新公式更新粒子的速度和位移，找到优解，优解公式为：x_i,j表示第i个粒子第j个路径所需要更新的位移，x_i,j(1)表示的是x_i,j的下一个，每次都在变化，下一次就为x_i,j(2)；进行链黑菌素化合物过程图像数据预处理后，提取颜色特征和自适应LBP算子特征；再进行多特征底秩矩阵表示；其中α是大于0的系数，用来度量噪声和野点带来的误差；等价为：输出准确的图像；对链黑菌素化合物提取工艺中设备进行清洗。