[发明专利]一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法在审
申请号: | 201810907288.9 | 申请日: | 2018-08-08 |
公开(公告)号: | CN108907906A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 弥谦;刘卫国;郭忠达;李宏;秦琳 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人: | 黄秦芳 |
地址: | 710032 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域,具体涉及一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法。对光学玻璃实现高效率、高质量和低成本的加工。本发明的技术方案所用装置包括管道、中间供液的磨头和工作台,所述管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液经压力泵将抛光液导入到磨头内部,流经磨头抛光面与工作台上被加工件之间的抛光区域,在抛光区域流体形成的液膜将磨头托起,磨头在液体的作用下达到自平衡状态,流体在抛光区域以一定速度流动,在剪切力作用下流体出现剪切增稠现象,固态粒子将磨粒包裹其中,形成柔性固着磨料,形成类固体形态,对被加工件上的凸峰进行剪切,实现工件表面的去除。 | ||
搜索关键词: | 磨头 抛光区域 抛光液 流体 被加工件 幂律流体 抛光介质 抛光 液浮 光学玻璃 抛光技术领域 超光滑表面 剪切力作用 工件表面 固态粒子 固体形态 固着磨料 光学元件 剪切增稠 磨头中心 剪切 低成本 高效率 抛光面 压力泵 自平衡 工作台 供液 磨粒 去除 凸峰 托起 液膜 流动 加工 | ||
【主权项】:
1.一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法,其特征在于:所用装置包括管道、中间供液的磨头和工作台,所述管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液经压力泵将抛光液导入到磨头内部,流经磨头抛光面与工作台上被加工件之间的抛光区域,在抛光区域流体形成的液膜将磨头托起,磨头在液体的作用下达到自平衡状态,流体在抛光区域以一定速度流动,在剪切力作用下流体出现剪切增稠现象,固态粒子将磨粒包裹其中,形成柔性固着磨料,形成类固体形态,对被加工件上的凸峰进行剪切,实现工件表面的去除;所述抛光液是非牛顿幂律流体剪切增稠抛光液,由下述质量份数的原料构成:总计100份,平均粒径d2=5um的氧化铈14~18份,平均粒径d1=12nm的二氧化硅9份,余者为分散剂聚乙二醇。
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