[发明专利]一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法在审
| 申请号： | 201810898314.6 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN109015393A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 弥谦;李宏;郭忠达;潘永强;秦琳 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B24C3/04;B24C5/00;B24C9/00 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域，具体涉及一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法。来克服现有技术存在的抛光效率低，需高精度数控机床控制，以及大面积去除出现波度误差的情况。本抛光装置为轴对称结构，包括管道和中间供液的磨头，磨头下端的抛光面为平面，沿圆心在抛光面上等间距设置有数个环状沟槽，环状沟槽分布于抛光面的外圆处；管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液为牛顿流体，在压力的作用下抛光液从磨头中心向四周流动，在磨头的抛光面与工件之间形成液膜将磨头与工件隔离开，磨头漂浮在工件表面上，流体流经抛光区域，在抛光面的凹槽处形成涡流，斜入射到工件表面，对工件表面产生剪切力，实现材料的去除。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 磨头 超光滑表面 工件表面 光学元件 抛光装置 抛光液 环状沟槽 磨头中心 抛光面 去除 高精度数控机床 抛光技术领域 涡流 等间距设置 轴对称结构 圆心 牛顿流体 抛光区域 抛光效率 凹槽处 剪切力 外圆处 斜入射 波度 供液 流体 液膜 漂浮 隔离 流动 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件超光滑表面的抛光装置，其特征在于：其为轴对称结构，包括管道(1)和中间供液的磨头(2)，所述磨头(2)下端的抛光面为平面，沿圆心在抛光面上等间距设置有数个环状沟槽，环状沟槽的截面为圆弧型，所述环状沟槽分布于抛光面的外圆处。
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