[发明专利]基于a-SiNx有效

专利信息
申请号: 201810893392.7 申请日: 2018-08-07
公开(公告)号: CN109037443B 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 李东阳;次会聚;宋宇浩;陈奕丞;袁余涵;李伟;蒋向东 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 基于a‑SiNx忆阻效应的SPR神经突触器件及其制备方法,属于仿生器件技术领域。本发明将晶体硅棱镜与“顶电极/a‑SiNx∶金属纳米颗粒双阻变层/底电极”忆阻器结构耦合,使得电调制下光信号经晶体硅棱镜射入至双阻变层,并运用表面等离子体共振(SPR)效应,使得器件工作过程中阻变层的介电常数变化信息以光信号进行读取,进而实现器件突触权重的光读取。本发明所提出的“电调制,光读取”神经突触器件具有传统“电调制,电读取”神经突触器件无法比拟的优势,因其不仅具有传统忆阻器低能耗、非易失性等特性,而且还具有光作为信息载体进行信号处理带宽大、抗电磁干扰能力强的优势。
搜索关键词: 基于 sin base sub
【主权项】:
1.一种基于a‑SiNx忆阻效应的SPR神经突触器件,其特征在于:包括忆阻器和设置在所述忆阻器上方的晶体硅棱镜,所述忆阻器自下而上具有“底电极/第一a‑SiNx阻变层/第二a‑SiNx阻变层/顶电极”垂直四层结构,所述晶体硅棱镜的折射率不小于所述第二a‑SiNx阻变层的折射率,使得电调制下近红外光经晶体硅棱镜射入至“第一a‑SiNx阻变层/第二a‑SiNx阻变层”双阻变层,引起顶电极与第二a‑SiNx阻变层之间界面的等离子体产生共振。
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