[发明专利]抛光机在审

专利信息
申请号: 201810854306.1 申请日: 2018-07-30
公开(公告)号: CN109382748A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 仲村真;水谷彰良;石川纯也 申请(专利权)人: 株式会社牧田
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B23/02;B24B55/02;B24B55/00
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 代理人: 韩登营;高伟
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够抑制整体长度的同时充分地实施对电路基板的冷却的抛光机。抛光机(1)具有:输出轴(65),其具有顶端工具(67),沿与作业面正交的方向延伸;主体壳体(2),其沿与输出轴(65)正交的方向延伸;电机(30),其收装于主体壳体(2);和电路基板(35),其沿主体壳体(2)延伸的方向与电机(30)并排配置。
搜索关键词: 主体壳体 抛光机 电路基板 方向延伸 输出轴 正交的 电机 并排配置 顶端工具 作业面 冷却 延伸
【主权项】:
1.一种抛光机,其特征在于,具有:输出轴,其具有顶端工具,沿与作业面正交的方向延伸;主体壳体,其沿与所述输出轴正交的方向延伸;电机,其收装于所述主体壳体;和电路基板,其沿所述主体壳体延伸的方向与所述电机并排配置。
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