[发明专利]应用测量装置测量电子装置的槽深的方法在审
| 申请号： | 201810846320.7 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN108592847A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 何玮 | 申请（专利权）人： | OPPO(重庆)智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/18 | 分类号： | G01B21/18;G01B11/22 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 401120 重庆*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种应用测量装置测量电子装置的槽深的方法，电子装置包括外壳，外壳上设有凹槽，应用测量装置测量电子装置的槽深的方法包括：探测凹槽内底面一点的位置的高度值；探测外壳的位于凹槽的槽口边缘的表面上对应位置的高度值；计算上述两者高度值的差值，并作为凹槽在该探测位置处的深度值；在凹槽内底面至少选取两个探测位置，并计算出凹槽在探测位置的深度值；将多个深度值与预定差值比较，找出超出预定差值的深度值。根据本申请实施例的应用测量装置测量电子装置的槽深的方法，通过采用测量装置测量电子装置的槽深的方法，不仅提高了测量操作效率，且测量槽深的精度较高，可以实现快速、批量、准确测量。 | ||
| 搜索关键词： | 电子装置 槽深 应用测量 装置测量 探测位置 内底面 测量电子装置 槽口边缘 测量操作 测量装置 差值比较 探测外壳 准确测量 测量槽 申请 探测 | ||
【主权项】：
1.一种应用测量装置测量电子装置的槽深的方法，其特征在于，所述电子装置包括外壳，所述外壳上设有凹槽，所述应用测量装置测量电子装置的槽深的方法包括：探测所述凹槽内底面一点的位置的高度值；探测所述外壳的位于所述凹槽的槽口边缘的表面上对应位置的高度值；计算上述两者所述高度值的差值，并作为所述凹槽在该探测位置处的深度值；在所述凹槽内底面至少选取两个所述探测位置，并计算出所述凹槽在所述探测位置的深度值；将多个所述深度值与预定深度值进行比较，找出超出所述预定深度值的标准范围的深度值。
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