[发明专利]一种CVD石墨烯的无污染转移工艺获得氧化石墨烯与石墨烯复合结构的复合薄膜及方法有效

专利信息
申请号: 201810803422.0 申请日: 2018-07-20
公开(公告)号: CN108910870B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 李昕;王常;刘卫华;赵丹;王旭明;贾唐浩 申请(专利权)人: 西安交通大学;广东顺德西安交通大学研究院
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194;C01B32/198;G01N27/12
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开一种CVD石墨烯的无污染转移工艺获得氧化石墨烯与石墨烯复合结构的复合薄膜及方法,过程为:先在具有金属衬底的CVD石墨烯的石墨烯表面旋涂氧化石墨烯分散液,得到结构A;再将结构A在40‑80℃烘1‑60分钟;再去除结构A的金属衬底,得到氧化石墨烯与石墨烯复合结构的复合薄膜;再对得到的复合薄膜进行漂洗,得到干净的复合薄膜。本发明能够克服石墨烯转移过程中引入的有机残留污染和产生裂纹和褶皱的问题,同时制备的氧化石墨烯与石墨烯复合结构的复合薄膜很好的弥补了石墨烯的不足,使其性能得到了极大地提高。
搜索关键词: 一种 cvd 石墨 无污染 转移 工艺 获得 氧化 复合 结构 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种CVD石墨烯的无污染转移工艺获得氧化石墨烯与石墨烯复合结构的复合薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1),在具有金属衬底的CVD石墨烯的石墨烯表面旋涂氧化石墨烯分散液,得到结构A;步骤2),再烘结构A,去除旋涂的氧化石墨烯与石墨烯中的水分,使氧化石墨烯与石墨烯形成复合结构,并对氧化石墨烯与石墨烯的复合结构进行退火;步骤3),再去除步骤2)所得结构的金属衬底,得到氧化石墨烯与石墨烯复合结构的复合薄膜;步骤4),再对步骤3)得到的复合薄膜进行漂洗,得到干净的复合薄膜。
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