[发明专利]湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置在审
| 申请号： | 201810731625.3 | 申请日： | 2018-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN110687752A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 赵丹平;杨志斌;罗晋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置。此湿空气制备装置包括：水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元；其中，水供给单元、空气供给单元以及电场供给单元分别与雾化腔室单元连接；水供给单元用于向雾化腔室单元供给水；电场供给单元用于向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场，使水电离雾化；空气供给单元用于向雾化腔室单元中供给压缩空气，压缩空气与雾化后的水在雾化腔室单元中混合，共同形成湿空气；雾化腔室单元包括出气口，出气口用于将形成的湿空气输出，输出的湿空气用于浸没式光刻装置。本发明的技术方案可制备超洁净湿空气，减缓光刻装置中浸没液蒸发速率，增强位置测量单元的抗干扰性能。 | ||
| 搜索关键词： | 雾化腔室 湿空气 电场 空气供给单元 水供给单元 供给单元 光刻装置 压缩空气 制备装置 出气口 雾化 制备 浸没式光刻装置 位置测量单元 抗干扰性能 单元连接 输出 供给水 浸没液 水电离 蒸发 洁净 供电 | ||
【主权项】：
1.一种湿空气制备装置，其特征在于，包括：水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元；/n其中，所述水供给单元、所述空气供给单元以及所述电场供给单元分别与所述雾化腔室单元连接；/n所述水供给单元用于向所述雾化腔室单元供给水；/n所述电场供给单元用于向所述雾化腔室单元供电，使所述雾化腔室单元中形成电场，使水电离雾化；/n所述空气供给单元用于向所述雾化腔室单元中供给压缩空气，所述压缩空气与雾化后的水在所述雾化腔室单元中混合，共同形成湿空气；/n所述雾化腔室单元包括出气口，所述出气口用于将所述湿空气输出。/n
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