[发明专利]用于升华转印的转印体及其制造方法在审
| 申请号： | 201810706865.8 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN108859463A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 李贺;严元国;张威 | 申请（专利权）人： | 天津恒丰达塑业股份有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/40 | 分类号： | B41M5/40 |
| 代理公司： | 天津协众信创知识产权代理事务所(普通合伙) 12230 | 代理人： | 王力强 |
| 地址： | 300400 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及用于升华转印的转印体及其制造方法，包括以下步骤：步骤一:在异形基片的一面形成保护层；步骤二:异形基片与基片附着，步骤二中异形基片与基片附着具体地：在异形基片的另一面形成固结层并将其附着在基片一面；所述步骤一前还包括预处理步骤，具体地：在形成所述保护层前在异形基片的一面形成底色层。本发明的有益效果：可以更加便捷经济地减少转印体表面不良，形成更加均匀的表面，呈现更加优质均匀的升华转印印刷品质，提供用于升华转印的转印体造方法和用于升华转印的转印体产品。 | ||
| 搜索关键词： | 升华转印 转印体 异形 附着 保护层 预处理步骤 印刷品质 底色层 固结层 制造 | ||
【主权项】：
1.用于升华转印的转印体，其特征在于包括依次设置异形基片和基片，所述异形基片上设置保护层。
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