[发明专利]一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法有效

专利信息
申请号: 201810693243.6 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN108812107B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 张峰;薛鹏飞;李小艳;刘丽欢;孔德强;徐会连;王程璐 申请(专利权)人: 山东博华高效生态农业科技有限公司
主分类号: A01G22/05 分类号: A01G22/05;A01G13/02
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 赵斌;王增娣
地址: 256500*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于农业栽培领域,具体涉及一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法。本发明方法主要通过地表覆膜和拱棚搭建,减少外部雨水对栽植西瓜的影响,给西瓜生长提供一个相对干旱的环境;同时拱棚的加温作用提高白天温度,增大昼夜温差;根部的干旱刺激和生长点的高温差刺激,促使西瓜形成抗逆刺激反应,主要表现为提高糖分积累,提升果实品质。该栽培方法将西瓜的种植和采收时间提前的同时,提高西瓜品质,所得西瓜甜度提高,经济效益好。
搜索关键词: 一种 西北 自然环境 西瓜 栽培 方法
【主权项】:
1.一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法,包括1)选地,2)整地,3)西瓜栽植,4)后期管护,5)采收过程,其特征在于,所述的2)整地,3)西瓜栽植,4)后期管护步骤具体为:2)整地:依次进行以下步骤:浇水深耕:栽植前进行一次浇水,施肥后旋耕松土;覆盖地膜:旋耕完成之后立即进行地膜覆盖,地膜覆盖宽度为1.3‑1.6m,地膜间隔宽度为70‑190cm;搭设拱棚:覆膜完成后,在每行薄膜上方搭设拱棚,拱棚跨度与薄膜宽度相同,拱棚高度为40‑60cm;3)西瓜栽植:每行地膜栽植一行西瓜,每行西瓜栽植位置为距离地膜一侧边缘28‑35cm处,相邻两行栽植规则为奇偶行不同侧,每行株距90‑100cm;4)后期管护:白天覆盖好棚膜,晚上将两侧棚膜掀起,进行通风降温,夜间温度低于5℃时,则应将拱棚两侧棚膜放下保温;保证西瓜蔓的生长点处于拱棚区域内;开花后人工授粉;需要浇水时,只浇小行间。
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