[发明专利]一种预焙铝电解槽的氧化铝下料方法有效
申请号: | 201810678420.3 | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN108893758B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 赖延清;田忠良;李松贤;孙春生;张正英;周亮;李贺松;沈冰;丁浩;刘强军;高杨;赵锡斌 | 申请(专利权)人: | 中南大学;青海西部水电有限公司;湖南力得尔智能科技有限公司 |
主分类号: | C25C3/14 | 分类号: | C25C3/14 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种预焙铝电解槽的氧化铝下料方法,预焙铝电解槽的打壳和下料同时进行,在下料过程中,氧化铝从定容器进入到下料管内后,在下料管内进行至少两次间歇停留,停留的间歇频率与打壳频率保持一致,并在氧化铝的每次停留结束前,进行打壳。本发明将氧化铝在下料管进行分段停留,利用铝电解槽的高温对下料管内停留的氧化铝进行预热,有效避免新加入电解槽中的氧化铝与电解质凝聚成块,从而加快了氧化铝的溶解与分散,使炉底难以形成沉淀,有利于电解槽的高效平稳运行。 | ||
搜索关键词: | 一种 预焙铝 电解槽 氧化铝 方法 | ||
【主权项】:
1.一种预焙铝电解槽的氧化铝下料方法,预焙铝电解槽的打壳和下料同时进行,其特征在于:下料过程中,氧化铝从定容器进入到下料管内后,在下料管内进行至少两次间歇停留,停留的间歇频率与打壳频率保持一致,并在氧化铝的每次停留结束前,进行打壳。
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