[发明专利]一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法在审
| 申请号： | 201810654199.8 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN108944085A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 贾文斌;孙力;廖金龙;许名宏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B41J11/00 | 分类号： | B41J11/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法，涉及有机溶液成膜技术领域，为解决现有的真空干燥装置在干燥后，像素界定层的像素区域内所形成的膜层的厚度均匀性较差的问题而发明。该真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。本发明可用于有机膜层等的干燥。 | ||
| 搜索关键词： | 真空干燥装置 真空干燥室 真空腔 超声波发射单元 放置面 厚度均匀性 像素界定层 成膜技术 像素区域 有机膜层 有机溶液 超声波 基板 可用 膜层 载台 发射 | ||
【主权项】：
1.一种真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，其特征在于，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。
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