[发明专利]天线及等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201810642400.0 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN109121276B 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 河田祐纪;小山纮司 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 安香子
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种天线及等离子体处理装置。本发明的天线具备电介质窗及设置于电介质窗的一个面的缝隙板,该天线中,将缝隙板上各缝隙(S)的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置(g)时,各缝隙(S)的基准位置(g)位于以重心(G0)为中心的虚拟圆上,连结各缝隙(S)的基准位置(g)与这些缝隙所属的虚拟点(G1)的线段从虚拟点(G1)以放射状存在,且相邻的这些线段之间的角度(β1~β4)相等,并且,基准位置(g)上的各缝隙(S)的长度方向与该缝隙(S)所属的上述线段所成的角度(θ1~θ4)相等。
搜索关键词: 天线 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种天线,其具备电介质窗及设置于所述电介质窗的一个面的缝隙板,该天线的特征在于,所述缝隙板上,在包围所述缝隙板的中央的虚拟圆上设定多个虚拟点,并设定包围各虚拟点的周围的虚拟环状线,将沿各虚拟环状线配置4个以上的缝隙而成的集合作为缝隙组时,在各缝隙组中,将各缝隙的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置时,各缝隙的所述基准位置位于所述虚拟环状线上,连结各缝隙的所述基准位置与这些缝隙所属的所述虚拟点的线段从所述虚拟点以放射状存在,且相邻的这些线段之间的角度相等,并且,所述基准位置上的各缝隙的长度方向与该缝隙所属的所述线段所成的角度相等。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810642400.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top