[发明专利]一种非晶Cu-Ta纳米多层膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201810608107.2 | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN108914072A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 符立才;秦文;周灵平;朱家俊;杨武霖;李德意 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人： | 蒋太炜 |
| 地址： | 410082 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种非晶Cu‑Ta纳米多层膜及其制备方法和应用。所述纳米多层膜由两种不同结构的非晶层交替叠加形成；任意一非晶层中同时含有Cu和Ta。所述纳米多层膜中，相接触的两种不同结构的非晶层成分连续过渡。其制备方法为：首先以纯Cu、纯Ta作为靶材；选择衬底；将靶材固定于靶头上，调整两靶的高度及角度使两靶中心聚焦于样品台的中心；将衬底放置于样品台的设定位置上；然后抽真空，通入保护气体；通过磁控溅射聚焦共沉积法在衬底上沉积薄膜；沉积薄膜时，转动样品台；得到设定结构的Cu‑Ta非晶纳米多层膜。本发明所设计和制备的产品，其应用领域包括将其用于材料表面抗摩擦磨损防护、固体润滑、电子封装扩散阻挡层、热电界面中的至少一种。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米多层膜 非晶层 样品台 衬底 非晶 制备方法和应用 沉积薄膜 靶材 制备 聚焦 扩散阻挡层 保护气体 磁控溅射 电子封装 固体润滑 交替叠加 连续过渡 磨损防护 抽真空 共沉积 抗摩擦 热电 转动 | ||
【主权项】：
1.一种Cu‑Ta非晶纳米多层膜，其特征在于：所述Cu‑Ta非晶纳米多层膜由两种不同结构的非晶层交替叠加形成；任意一非晶层中同时含有Cu和Ta。
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