[发明专利]一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂合成方法与应用在审
申请号: | 201810587654.7 | 申请日: | 2018-06-08 |
公开(公告)号: | CN109926018A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 王亚明;刘志华;杨晨 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | B01J20/12 | 分类号: | B01J20/12;A24D3/06;A24D3/04;B01J20/30 |
代理公司: | 曲靖科岚专利代理事务所(特殊普通合伙) 53202 | 代理人: | 李继琼;郑兴平 |
地址: | 650031 云南*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂合成方法与应用。采用二氧化硅柱撑剂在钠基蒙脱石层间进行柱撑后,固定在蒙脱石001晶面层间,得到含多重二氧化硅固定的改性蒙脱石材料(SiO2‑C8‑M);再将其浸置在羟基铁胶体溶液中,使羟基铁胶体分子充分进入层间,增多活性点位;最后在还原气氛中煅烧,形成亚铁离子点位,即得到所述的滤嘴添加剂,并在卷烟滤嘴中进行使用。经过扫描电镜、物理吸附和卷烟添加实验测试,结果表明本发明所述的滤嘴添加剂材料不仅具有较大的比表面积,而且能够选择性吸附烟气中的NNK。该滤嘴添加剂具有可塑性强,吸附效果好,且价格低廉,适用高效。 | ||
搜索关键词: | 滤嘴添加剂 烟气 羟基铁 层间 点位 合成 二氧化硅柱 改性蒙脱石 钠基蒙脱石 选择性吸附 二氧化硅 还原气氛 胶体分子 胶体溶液 卷烟滤嘴 可塑性强 扫描电镜 实验测试 物理吸附 吸附效果 亚铁离子 固定的 晶面层 蒙脱石 柱撑 煅烧 应用 卷烟 | ||
【主权项】:
1.一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂,其特征在于,用二氧化硅柱撑剂在钠基蒙脱石层间进行柱撑后,固定在蒙脱石001晶面层间,得到含多重二氧化硅固定的改性蒙脱石材料;再将其浸置在羟基铁胶体溶液中,使羟基铁胶体分子充分进入层间,增多活性点位;最后在还原气氛中煅烧,形成亚铁离子点位,得到所述的滤嘴添加剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810587654.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。