[发明专利]一种二氧化硅包覆三氟化钆带套带结构纳米带的制造技术在审

专利信息
申请号: 201810583429.6 申请日: 2018-06-08
公开(公告)号: CN108950732A 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 李丹;马千里;王进贤;于文生;宋岩;宋超 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: D01F9/08 分类号: D01F9/08;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130022 *** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及一种二氧化硅包覆三氟化钆带套带结构纳米带的制造技术,属于准一维纳米材料制造技术领域。本发明包括三个步骤:(1)配制纺丝液;(2)采用单轴静电纺丝技术制造PVP/[Gd(NO3)3+TEOS]原始复合纳米带;(3)制造GdF3@SiO2带套带结构纳米带,采用氟化氢铵为氟化剂,活性碳粒为辅助还原剂,在空气中将原始复合纳米带加热氟化处理,得到GdF3@SiO2带套带结构纳米带,宽度为1.06±0.02μm,厚度为145nm,长度大于30μm,磁化强度为1.80emu·g‑1。本发明的制造方法简单易行,可以批量生产,这种特殊结构的准一维纳米材料具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 结构纳米 套带 制造 准一维纳米材料 复合纳米带 二氧化硅 氟化钆 包覆 磁化 单轴静电纺丝 辅助还原剂 氟化处理 氟化氢铵 活性碳粒 三个步骤 纺丝液 氟化剂 加热 配制 应用 生产
【主权项】:
1.一种二氧化硅包覆三氟化钆带套带结构纳米带的制造技术,其特征在于,采用单轴静电纺丝技术与氟化技术相结合的方法,使用聚乙烯吡咯烷酮PVP为高分子模板剂,采用N,N‑二甲基甲酰胺DMF为溶剂,氟化试剂使用氟化氢铵NH4HF2,活性碳粒为辅助还原剂,制造产物为GdF3@SiO2带套带结构纳米带,其步骤为:(1)配制纺丝液钆源使用的是氧化钆Gd2O3,硅源使用的是正硅酸乙酯TEOS,高分子模板剂采用聚乙烯吡咯烷酮PVP,采用N,N‑二甲基甲酰胺DMF为溶剂,称取0.7710g Gd2O3,用硝酸HNO3溶解后蒸发,得到Gd(NO3)3,加入7.8000g DMF、0.6000g TEOS和1.6800g PVP,于室温下磁力搅拌6h,并静置2h,形成纺丝液;(2)制造PVP/[Gd(NO3)3+TEOS]原始复合纳米带采用单轴静电纺丝技术,将纺丝液注入一支带有1mL塑料喷枪头的10mL注射器中,将一根铜线插入纺丝液中并与高压直流电源的正极接线柱相连,喷枪头与水平面的夹角为30°,以垂直放置的铁丝网作为接收装置并接地,用另一根铜线将铁丝网与高压直流电源的零电势接线柱相连,喷枪头与接收屏铁丝网的距离为16cm,纺丝电压为13kV,室内温度为20‑28℃,相对湿度为20%‑40%,进行静电纺丝,随着溶剂的挥发,在铁丝网上即可得到PVP/[Gd(NO3)3+TEOS]原始复合纳米带;(3)制造GdF3@SiO2带套带结构纳米带氟化试剂使用氟化氢铵NH4HF2,活性碳粒为辅助还原剂,将氟化氢铵放入坩埚中,上面覆盖活性碳粒,将所述的PVP/[Gd(NO3)3+TEOS]原始复合纳米带放在活性碳粒上面,盖上坩埚盖子后放入管式炉中,以1℃/min的升温速率升温至700℃并保温4h,再以1℃/min的降温速率降温至200℃,之后随炉体自然冷却至室温,得到GdF3@SiO2带套带结构纳米带,宽度为1.06±0.02μm,厚度为145nm,长度大于30μm,磁化强度为1.80emu·g‑1。
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