[发明专利]因瓦合金的电解抛光液及电解抛光方法有效

专利信息
申请号: 201810582310.7 申请日: 2018-06-07
公开(公告)号: CN108505108B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 杨婷;孙中华;吴迎飞;薛峰 申请(专利权)人: 河钢股份有限公司
主分类号: C25F3/24 分类号: C25F3/24
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 代理人: 曹淑敏
地址: 050023 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种因瓦合金的电解抛光液及电解抛光方法,其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17~22的体积比混合而成。所述因瓦合金试样置于电解抛光液中作为阳极,不溶性金属为阴极;所述电解抛光液的温度为0℃~10℃,抛光电压为30~40V,对因瓦合金试样进行电解抛光。本抛光液配制简单,抛光效果好,试样表面平整、光洁、无明显变形层,可多次使用;能有效去除表面的应力层,有效地提升电解抛光质量,得到高标定率的电子衍射花样。本电解抛光方法能有效的去除样品表面的应力层,有效地提升电解抛光质量,有利于EBSD测试时产生强的衍射花样,获得高的标定率,以便于对因瓦合金进行晶界特征、织构、应力应变等微观组织结构的研究。
搜索关键词: 合金 电解 抛光 方法
【主权项】:
1.一种因瓦合金的电解抛光液,其特征在于:其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17~22的体积比混合而成。
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