[发明专利]基于电介质纳米砖超材料的线偏振光起偏器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201810575094.3 申请日: 2018-06-06
公开(公告)号: CN108663740B 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 郑国兴;陈奎先;崔圆;邓联贵;邓娟;戴琦;付娆;李子乐;刘勇;毛庆洲 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B27/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了基于电介质纳米砖超材料的线偏振光起偏器及制备方法,包括一基底和三透射式纳米砖阵列;基底的一侧面设有第一透射式纳米砖阵列,与该一侧面相对的另一侧面设有第二透射式纳米砖阵列和第三透射式纳米砖阵列;第一透射式纳米砖阵列和第二透射式纳米砖阵列均由若干纳米砖阵列单元在基底上按阵列形式排列构成;纳米砖阵列单元又由基底上等间距排列成一行的方位角为零、但尺寸不一的若干电介质纳米砖构成;第三透射式纳米砖阵列由若干方位角为45°且尺寸一致的电介质纳米砖按阵列形式排列构成。本发明可将一束随机偏振态入射光,高效地转换为振动方向相同且传播方向不变的两束线偏光;同时,本发明还具有低损耗、制造简单等优点。
搜索关键词: 基于 电介质 纳米 材料 偏振光 起偏器 制备 方法
【主权项】:
1.基于电介质纳米砖超材料的线偏振光起偏器,其特征是:包括一基底和三透射式纳米砖阵列;基底的一侧面设有第一透射式纳米砖阵列,与该一侧面相对的另一侧面设有第二透射式纳米砖阵列和第三透射式纳米砖阵列,第一透射式纳米砖阵列和第三透射式纳米砖阵列相对设置;所述第一透射式纳米砖阵列和所述第二透射式纳米砖阵列均由若干纳米砖阵列单元在基底上按阵列形式排列构成;其中,纳米砖阵列单元又由基底上等间距排列成一行的方位角为零、但尺寸不一的若干电介质纳米砖构成;所述第三透射式纳米砖阵列由若干方位角为45°且尺寸一致的电介质纳米砖按阵列形式排列构成;第一透射式纳米砖阵列、第二透射式纳米砖阵列、第三透射式纳米砖阵列中,所有相邻的电介质纳米砖在行方向和列方向上的间距均相等,且在行方向上的间距等于在列方向上的间距;所述电介质纳米砖均为亚波长尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810575094.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top