[发明专利]连接孔层的光学临近修正方法有效
| 申请号： | 201810554474.9 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN108828899B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 刘泽;李林;于世瑞 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 王江富 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种连接孔层的光学临近修正方法，其先提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；然后对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分。本发明的连接孔层的光学临近修正方法，在连接孔层及上下层光刻图形满足设计要求、不影响器件性能的基础上，能增大自由度受限连接孔图形的面积，减小边缘放置误差，模拟的连接孔图形与标准连接孔图形很好的契合，增大了工艺窗口，有效避免了自由度受限连接孔图形因面积过小而导致曝光失败的缺陷风险，提高了产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 连接 光学 临近 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，包括以下步骤：一.提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；自由度受限连接孔图形，是指连接孔到相邻连接孔的最小间距、连接孔到栅极的最小间距或连接孔到上层金属层的最小间距减去设计规则规定的相应最小间距的差值小于设定值；二.对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；连接孔左边的中间一段的移动距离为XL1，其他两段的移动距离分别为XL2、XL3；连接孔右边的中间一段的移动距离为XR1，其他两段的移动距离分别为XR2、XR3；连接孔上边的中间一段的移动距离为XU1，其他两段的移动距离分别为XU2、XU3；连接孔下边的中间一段的移动距离为XD1，其他两段的移动距离分别为XD2、XD3。
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