[发明专利]一种小型西瓜高效省力化栽培方法

摘要

本发明公开了一种小型西瓜高效省力化栽培方法，包括以下步骤：做种植垄；铺地膜和滴管带；西瓜苗定植；拱棚搭建；棚膜开洞；田间管理。本发明采用玻璃纤维管做拱棚拱架，仅用一层棚膜，后期采用在棚膜上开洞的方式进行一次性永久放风，投入少，操作简单；本发明中小西瓜在生长前期基本处在一个稳定的生长环境中，避免了一般拱棚栽培方式下放风造成的温度忽高忽低对植株生长的影响，后期在避雨环境中生长，植株更健壮，生长速度快，病害、裂果减少，不仅能提前上市，而且西瓜商品性好，效益更高；本发明采用绿色地膜覆盖，不仅能抑制杂草、保温保湿，而且能防止夏季强光造成的叶片日灼现象。

主权项

1.一种小型西瓜高效省力化栽培方法，其特征在于，具体步骤如下：(1)做种植垄：在平整好的种植地上做南北向栽植垄，垄面由西向东微微倾斜，垄面宽度为1.6‑1.8m，垄底宽1.8‑2.0m，垄高10‑25cm，垄长40‑60m，沟宽30‑40cm，垄面呈5‑10度向东倾斜，西高东低；(2)铺地膜和滴管带：在栽植垄上距离垄西边40cm处铺设滴管带，然后在栽植垄上铺地膜，四周压实；(3)西瓜苗种植：在栽植垄上离垄西边30cm处，按照40‑45cm的株距，用打孔器打孔，把西瓜嫁接苗定植在定植带上；(4)拱棚搭建：将2m长的玻璃纤维杆一端在栽植垄栽苗的西边沿地膜边垂直插下，插入深度8‑10cm，另一端从瓜苗的另一侧，离种植垄西边1.2m处插下，形成拱杆，顺着定植垄按40‑45cm间距一个，搭建拱棚，使拱棚的高度为50‑60cm，最后在拱棚上覆盖白色塑料无滴膜，形成棚膜，四周用土封严，拱棚搭建好后灌一次透水，之后根据墒情进行滴灌；(5)棚膜开洞：瓜苗生长前期不用放风，直到瓜苗团棵时期，白天温度超过32度时，在棚膜西边离地30cm处用直径15cm打孔器打孔Ⅰ，孔Ⅰ中心之间间距20cm；当西瓜进入伸蔓期，白天温度稳定在20度以上时，在棚膜东边挨着地膜向上用直径40cm打孔器打孔Ⅱ，孔Ⅱ中心之间间距40‑45cm；(6)田间管理：采用三蔓整枝，三个瓜蔓环绕瓜苗根部一圈，从东边洞口伸出，使得西瓜在拱棚内。