[发明专利]用于在靶组件的生产室内制作固体靶的系统及方法在审
| 申请号： | 201810419307.3 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN108811294A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | M.帕纳斯特;F.任赛;K.加农;M.卡尔波姆;T.埃里克松 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H05H6/00 | 分类号： | H05H6/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在靶组件的生产室内制作固体靶的系统及方法。系统包括具有生产室的靶组件。靶组件包括电极和暴露于生产室的传导基底。靶组件具有提供到生产室的通路的流体端口。系统还包括具有储存容器的流体控制系统和连接至流体端口的流体线路。储存容器和生产室通过流体线路中的至少一条而流连通。该系统还包括构造成电连接至电极和传导基底的功率源。在电解溶液设置在生产室中时，生产室、电极和传导基底形成电解池。功率源构造成将电压施加至电极和传导基底以沿传导基底沉积固体靶。 | ||
| 搜索关键词： | 生产室 靶组件 基底 传导 电极 固体靶 储存容器 流体端口 流体线路 功率源 流体控制系统 室内 电解溶液 电压施加 电解池 电连接 流连通 沉积 制作 暴露 生产 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：具有生产室的靶组件，所述靶组件包括电极和暴露于所述生产室的传导基底，所述靶组件具有提供到所述生产室的通路的流体端口；流体控制系统，其具有构造成保持电解溶液的储存容器和连接到所述靶组件的流体端口的流体线路，所述储存容器和所述靶组件的生产室通过所述流体线路中的至少一条而流连通；以及功率源，其构造成电连接到所述电极和所述传导基底，其中所述生产室、所述电极和所述传导基底在所述电解溶液设置在所述生产室中时形成电解池，所述功率源构造成将电压施加至所述电极和所述传导基底以沿传导基底沉积固体靶。
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