[发明专利]曝光设备有效
申请号: | 201810388458.7 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN108594602B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 刘学敏 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种曝光设备,包括数个遮挡平台、分别设于所述数个遮挡平台上的数个第一挡板、设于所述数个遮挡平台一侧的数个光罩平台及设于所述光罩平台上的光罩,所述数个遮挡平台能分别沿所述光罩所在平面的第一方向来回移动,所述数个第一挡板能分别在对应的遮挡平台上沿所述光罩所在平面的第一方向伸缩运动,相对于现有技术来说,提高了第一挡板的作动范围,从而提高了第一挡板的遮挡区域的面积,进而提高光罩的非曝光区遮挡的灵活性,弥补了现有技术的曝光设备的功能缺陷,极大地提高了光罩的利用率。 | ||
搜索关键词: | 曝光 设备 | ||
【主权项】:
1.一种曝光设备,其特征在于,包括数个遮挡平台(10)、分别设于所述数个遮挡平台(10)上的数个第一挡板(12)、设于所述数个遮挡平台(10)一侧的数个光罩平台(20)及设于所述光罩平台(20)上的光罩(22),所述遮挡平台(10)能沿所述光罩(22)所在平面的第一方向来回移动。
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