[发明专利]一种光刻胶以及曝光方法在审
| 申请号： | 201810386780.6 | 申请日： | 2018-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN108594607A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 刘宁;周斌;胡迎宾;苏同上 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光技术领域，尤其涉及一种光刻胶以及曝光方法。不需要剥离并重新涂覆光刻胶即可进行多次光刻指标参数确认，能够大幅提升生产效率，从而能够提高生产效益。本发明实施例提供一种光刻胶，该光刻胶中添加有光致变色物质，该光致变色物质用于在对该光刻胶进行曝光后，使曝光区相对于遮光区发生变色，并用于在预处理条件下处理后，使得该曝光区恢复原色，在该预处理条件下该光刻胶不发生化学变化。本发明实施例用于形成光刻图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 光致变色物质 预处理条件 曝光区 曝光 原色 光刻图案 化学变化 曝光技术 生产效率 指标参数 遮光区 变色 光刻 涂覆 剥离 恢复 生产 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶，其特征在于，所述光刻胶中添加有光致变色物质，所述光致变色物质用于在对所述光刻胶进行曝光后，使曝光区相对于遮光区发生变色，并用于在预处理条件下处理后，使得所述曝光区恢复原色，在所述预处理条件下所述光刻胶不发生化学变化。
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