[发明专利]一维对称类斐波那契准光学晶体及其制备方法和光学器件在审
申请号: | 201810382318.9 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN108594336A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 谢逸音 | 申请(专利权)人: | 谢逸音 |
主分类号: | G02B1/00 | 分类号: | G02B1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100080 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一维对称类斐波那契准光学晶体及其制备方法和光学器件,该一维对称类斐波那契准光学晶体包括:第一光学材料层B和第二光学材料层A,所述第一光学材料层B和第二光学材料层A按照斐波那契数列进行排列以形成不包括S0而仅包括S1至SN的N组光学层,所述N组光学层满足以下迭代关系:S0={B}且S1={A};SN={SN‑2SN‑1};其中,N≥2。该光学器件包括上述一维对称类斐波那契准光学晶体。根据本发明的一维对称类斐波那契准光学晶体及光学器件可以更好地调制光的传输。 | ||
搜索关键词: | 斐波那契 对称类 准光学 光学材料层 光学器件 光学层 制备 斐波那契数列 迭代关系 调制光 传输 | ||
【主权项】:
1.一种一维对称类斐波那契准光学晶体,其特征在于,包括:第一光学材料层B和第二光学材料层A,所述第一光学材料层B和第二光学材料层A按照斐波那契数列进行排列以形成不包括S0而仅包括S1至SN的N组光学层,所述N组光学层满足以下迭代关系:S0={B},S1={A};SN={SN‑2SN‑1};其中,N≥2,SN‑2、SN‑1与SN分别表示第N‑2级、第N‑1级与第N级斐波那契数列,括号{}表示将各级序列按前后顺序组合在一起。
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