[发明专利]日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材

摘要

本发明提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，粘合剂包括式I所示的化合物。较佳地，式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。烷氧基是甲氧基、乙氧基或丙氧基。近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。还提供了相关粘合剂、日照遮蔽膜和基材。本发明的日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。

主权项

1.一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，其特征在于，所述粘合剂包括式I所示的化合物：其中，n为0～3的整数；m为0～3的整数。