[发明专利]键帽及使用该键帽的机械键盘在审

专利信息
申请号: 201810287977.4 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN108648945A 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 王晟 申请(专利权)人: 北京汉德默兹克科技有限公司
主分类号: H01H13/14 分类号: H01H13/14;H01H13/7057;H01H13/85
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 杨勋
地址: 102200 北京市昌平区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及计算机键盘技术领域,尤其是涉及一种键帽及使用该键帽的机械键盘。该键帽,包括触摸部和键芯部;触摸部与键芯部相连接;触摸部包括上体以及与上体相连接的下体,上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于下体的底部在参考平面内的投影面积,其中参考平面与触摸部的横截面相平行;上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面,内凹弧面的凹陷深度不大于2mm,或上体的上表面为向上凸出的外凸弧面,外凸弧面的凸出高度不大于2mm。该机械键盘,包括所述的键帽。本发明有利于提高用户在输入字符时的舒适度,提高输入速度,降低在输入字符时的输错率。
搜索关键词: 键帽 上体 参考平面 机械键盘 触摸 输入字符 下体 上表面 键芯 投影 计算机键盘 凸出 内凹弧面 外凸弧面 向下凹陷 内凹弧 舒适度 凸出的 凹陷 外凸 平行
【主权项】:
1.一种键帽,其特征在于,包括触摸部和键芯部;所述触摸部与所述键芯部相连接;所述触摸部包括上体以及与所述上体相连接的下体,所述上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于所述下体的底部在参考平面内的投影面积,其中所述参考平面与所述触摸部的横截面相平行;所述上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面,所述内凹弧面的凹陷深度不大于2mm,或所述上体的上表面为向上凸出的外凸弧面,所述外凸弧面的凸出高度不大于2mm。
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