[发明专利]抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法有效
| 申请号： | 201810275797.4 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108693713B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 佐藤裕典;长井洋子;渡边武;郡大佑;荻原勤 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种具有优异的耐受碱性过氧化氢水的性能、良好的嵌入/平坦化特性、及干法蚀刻特性的抗蚀剂下层膜材料、使用了该抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。其为用于多层抗蚀剂法的抗蚀剂下层膜材料，其含有：(A1)下述通式(X)表示的化合物中的一种或两种以上；以及，(B)有机溶剂。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 材料 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜材料，其为用于多层抗蚀剂法的抗蚀剂下层膜材料，其特征在于，含有：(A1)下述通式(X)表示的化合物中的一种或两种以上；以及(B)有机溶剂，[化学式1]![]()
式中，n01表示1～10的整数，n01为2时，W表示亚硫酰基、磺酰基、醚基、或碳原子数为2～50的二价有机基团，n01为2以外的整数时，W表示碳原子数为2～50的n01价有机基团；此外，Y表示单键或碳原子数为1～10的可包含氧原子的二价连接基团。
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