[发明专利]介质腔增强型高反射波片及其制备方法在审
| 申请号： | 201810247937.7 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN108761617A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 胡敬佩;朱玲琳;张方;曾爱军;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种介质腔增强型高反射波片及其制备方法，该波片包括介质基底，在介质基底上自下而上依次是金属反射层、介质光栅共振腔层和金属光栅层，所述的金属反射层是连续的，厚度H1为50～100nm；所述的介质光栅共振腔层和金属光栅层是不连续的，所述的介质光栅共振腔层的光栅和金属光栅层的光栅具有相同的周期P，P值为100～300nm，占空比W/P为0.3～0.7，所述的介质光栅共振腔层的厚度H2为50～80nm，所述的金属光栅层的厚度H3为150～200nm。本发明波片具有高反射的光学性能、制作工艺简单，并且在不同波段实现了二分之一和四分之一波片的功能。该器件在光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 金属光栅层 介质光栅 共振腔 波片 高反射 金属反射层 光栅 介质腔 增强型 基底 制备 光学传感系统 集成光学系统 纳米光子器件 四分之一波片 光学性能 制作工艺 不连续 占空比 波段 应用 | ||
【主权项】：
1.一种介质腔增强型高反射波片，包括介质基底，其特征在于在介质基底上自下而上依次是金属反射层、介质光栅共振腔层和金属光栅层，所述的金属反射层是连续的，厚度H1为50～100nm；所述的介质光栅共振腔层和金属光栅层是不连续的，所述的介质光栅共振腔层的光栅和金属光栅层的光栅具有相同的周期P，p值为100～300nm，占空比W/P为0.3～0.7，所述的介质光栅共振腔层的厚度H2为50～80nm，所述的金属光栅层的厚度H3为150～200nm。
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