[发明专利]等离子处理设备及其等离子处理腔体在审

专利信息
申请号: 201810237646.X 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN108284284A 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 赵芝强;赵公魄;丁雪苗 申请(专利权)人: 珠海宝丰堂电子科技有限公司
主分类号: B23K26/382 分类号: B23K26/382;B08B7/00
代理公司: 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 代理人: 林永协
地址: 519000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种等离子处理设备及其等离子处理腔体,该等离子处理腔体包括第一腔体、第二腔体、滑动机构、固定板以及气缸,第一腔体内部设置有第一电极,第二腔体内部设置有第二电极,滑动机构包括滑轨以及滑块,滑块分别与第一腔体、第二腔体固定连接,滑轨沿纵向方向相对于滑块滑动,固定板与滑轨固定连接,固定板中部设置有第一通孔,气缸与固定板固定连接,气缸的活塞杆与第一腔体固定连接。该等离子处理设备的放料机上设置有等离子处理腔体,软性电路板进入激光钻孔装置内部进行激光钻孔后,再进入到等离子处理腔体内部进行等离子处理,进而对软性电路板孔内的钻污进行等离子清洗处理,工作流程简洁高效,处理效率高。
搜索关键词: 等离子处理腔 等离子处理设备 第一腔体 固定板 滑块 气缸 软性电路板 第二腔体 滑动机构 腔体内部 滑轨 激光钻孔装置 等离子处理 等离子清洗 固定板中部 处理效率 第二电极 第一电极 工作流程 激光钻孔 滑轨沿 活塞杆 体内部 滑动 放料 通孔
【主权项】:
1.等离子处理腔体,其特征在于,包括:第一腔体,所述第一腔体内部具有第一空腔,所述第一空腔内设置有第一电极;第二腔体,所述第二腔体内部具有第二空腔,所述第二空腔内设置有第二电极;滑动机构,所述滑动机构包括滑轨以及滑块,所述滑块分别与所述第一腔体、所述第二腔体固定连接,所述滑轨沿纵向方向相对于所述滑块滑动;固定板,所述固定板与所述滑轨固定连接,所述固定板中部设置有第一通孔;气缸,所述气缸的第一端与所述固定板的第一端固定连接,所述气缸的活塞杆穿过所述第一通孔与所述第一腔体固定连接。
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