[发明专利]废水处理装置和废水处理方法有效
| 申请号： | 201810215769.3 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108622992B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 熊凉慈 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C02F1/72 | 分类号： | C02F1/72 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种能够防止水垢成分在催化剂表面析出，从而能够高度维持催化剂处理性能的废水处理装置以及废水处理方法。一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板(2)、分散板(1)、填充物层和催化剂层，将所述分散板(2)与所述分散板(1)之间的距离设为H1，将所述分散板(1)与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。 | ||
| 搜索关键词： | 废水处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板2、分散板1、填充物层和催化剂层，将所述分散板2与所述分散板1之间的距离设为H1，将所述分散板1与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。
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