[发明专利]掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置有效
申请号: | 201810215487.3 | 申请日: | 2018-03-15 |
公开(公告)号: | CN108363271B | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 王文超;胡波;王宝强;朴相镇;徐旭;徐姗姗 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F7/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明的实施例提供一种掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置,涉及显示技术领域,可解决大尺寸拼接产品难以形成连续数字标识的问题。该掩膜板包括依次排列的第一、第二和第三单元,各单元分别包括:X |
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搜索关键词: | 掩膜板 信号线 数字 标识 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,包括:依次排列的第一单元、第二单元和第三单元;所述第一单元包括:X1个走线图案;所述第二单元包括:X2个走线图案;所述第三单元包括:X3个走线图案;X1、X3≥1,X2≥3;所述X1个走线图案、所述X2个走线图案和所述X3个走线图案均平行排列;其特征在于,所述第一单元还包括:位于所述X1个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X1个数字标识图案;沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X1个数字标识图案的数字为按照由小到大的顺序排列的X1个连续整数;所述第二单元还包括:位于所述X2个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,所述X2个标识组中所有数字标识图案的数字为N*X2个连续整数,N≥2;其中,沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X2个标识组中位于相同排列位置处的数字标识图案的数字为由小到大排列的X2个连续整数,所述第二单元中的第1个标识组中的N个数字标识图案的最小数字比所述第一单元中的最后1个数字标识图案的数字大1;所述第三单元还包括:位于所述X3个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X3个数字标识图案;沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X3个数字标识图案的数字为按照由小到大的顺序排列的X3个连续整数,且所述第三单元中的第1个数字标识图案的数字比所述第二单元中的最后1个标识组中的N个数字标识图案的最大数字大1。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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