[发明专利]一种功能性微纳异质结构的印刷方法有效

专利信息
申请号: 201810187798.3 申请日: 2018-03-07
公开(公告)号: CN108483390B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 李一凡;苏萌;宋延林 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所;中国科学院大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅;赵静
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种微纳异质结构的印刷方法。该方法包括下述步骤:1)将有机相纳米材料组装液均匀铺展在硅柱模板表面,然后将基底覆盖到所述硅柱模板上,使所述有机相纳米材料组装液中的溶剂挥发,在所述基底上便形成了规则排列的纳米材料沉积的点阵列结构;2)将水相纳米材料组装液注入到所述硅柱模板上,使所述水相纳米材料组装液中的水挥发,纳米材料便以规则有序的线阵列结构沉积到所述基底上,最终在所述基底上形成点线连接的微纳异质结构。此印刷方法能够实现异质结构在基底上的大面积印刷,使其在微纳电子电路、光学元件、生物检测等方面都具有潜在的应用价值。
搜索关键词: 纳米材料组装 异质结构 基底 硅柱 印刷 纳米材料 有机相 沉积 电子电路 光学元件 规则排列 基底覆盖 模板表面 溶剂挥发 生物检测 点阵列 潜在的 线阵列 点线 挥发 铺展 应用
【主权项】:
1.一种微纳异质结构的印刷方法,包括下述步骤:1)将有机相纳米材料组装液均匀铺展在硅柱模板表面,然后将基底覆盖到所述硅柱模板上,使所述有机相纳米材料组装液中的溶剂挥发,在所述基底上便形成了规则排列的纳米材料沉积的点阵列结构;2)将水相纳米材料组装液注入到步骤1)处理后的硅柱模板上,使所述水相纳米材料组装液中的水挥发,纳米材料便以规则有序的线阵列结构沉积到所述基底上,最终在所述基底上形成点线连接的微纳异质结构。
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