[发明专利]结构光测距装置及方法在审
申请号: | 201810161821.1 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN108345002A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 王敏捷;梁雨时 | 申请(专利权)人: | 上海图漾信息科技有限公司 |
主分类号: | G01S17/08 | 分类号: | G01S17/08;G01S7/481 |
代理公司: | 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11452 | 代理人: | 张阳 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种结构光测距装置和方法。装置包括:向被测空间投射结构光的光源;与光源之间具有预定的相对空间位置关系并且包括图像传感器和成像视场角调整组件的成像单元,被被测空间内障碍物反射的结构光经由成像视场角调整组件在图像传感器上成像,其中成像视场角调整组件被设置为压缩成像单元在特定方向上的成像视场角;以及连接至成像单元的处理器,处理器根据相对空间位置关系和成像视场角调整组件的调整参数,从障碍物在图像传感器上的成像中求取障碍物的深度距离。由此,能够通过在成像镜头中并入特定方向上的视场角压缩功能来增大条状或线形光的成像线宽,从而为线形光定位提供更多的信息,改善测量精度并提供抗扰动能力。 | ||
搜索关键词: | 成像视场角 调整组件 结构光 图像传感器 成像单元 相对空间位置 测距装置 线形光 障碍物 处理器 光源 成像 障碍物反射 压缩 成像镜头 调整参数 深度距离 成像线 抗扰动 视场角 投射 测量 | ||
【主权项】:
1.一种结构光测距装置,包括:向被测空间投射结构光的光源;与所述光源之间具有预定的相对空间位置关系并且包括图像传感器和成像视场角调整组件的成像单元,被所述被测空间内障碍物反射的结构光经由所述成像视场角调整组件在所述图像传感器上成像,其中所述成像视场角调整组件被设置为压缩所述成像单元在特定方向上的成像视场角;以及连接至所述成像单元的处理器,所述处理器根据所述相对空间位置关系和所述成像视场角调整组件的调整参数,从所述障碍物在所述图像传感器上的成像中求取所述障碍物的深度距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海图漾信息科技有限公司,未经上海图漾信息科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810161821.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。