[发明专利]一种面向SiO2/C负极的表面修饰方法在审

专利信息
申请号: 201810096319.7 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108390030A 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 向勇;彭邦恒;黄玥;宋世湃 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01M4/36 分类号: H01M4/36
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 甘茂
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于锂离子电池技术领域,提供一种面向SiO2/C负极的表面修饰方法;本发明通过物理气相沉积(PVD)或者原子层淀积(ALD)的方法,在SiO2/C负极表面沉积一层锂离子导体缓冲层、位于SiO2/C负极与固体电解质之间;所述锂离子导体缓冲层采用Li1+xTi2‑xMx(P O4)3,其中,0≤x<2,M=Al、Ga、In、Sc;或者La2/3‑xLi3xTiO3;又或者LiOH。通过在SiO2/C负极与固体电解质之间增加一层锂离子导体缓冲层材料,形成人造SEI膜,抑制电极与电解液接触界面之间不良副反应发生,有效提高负极材料的结构稳定性,降低充放电过程中Si O2/C负极体积变化带来的负面影响,从而提高电池循环性能。
搜索关键词: 负极 锂离子导体 固体电解质 表面修饰 缓冲层 电池循环性能 物理气相沉积 充放电过程 电解液接触 缓冲层材料 结构稳定性 原子层淀积 锂离子电池 负极表面 负极材料 负面影响 体积变化 抑制电极 副反应 沉积
【主权项】:
1.一种面向SiO2/C负极的表面修饰方法,其特征在于,在SiO2/C负极表面沉积一层锂离子导体缓冲层、位于SiO2/C负极与固体电解质之间;所述锂离子导体缓冲层采用Li1+xTi2‑xMx(PO4)3,其中,0≤x<2,M=AL、Ga、In、Sc;或者La2/3‑xLi3xTiO3,其中,0
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