[发明专利]一种恒压抛光的方法及数控系统

摘要

本发明公开了一种恒压抛光的方法，应用于数控系统，本方法将打磨轨迹轨迹区分为抛光段和非抛光段，控制系统根据轨迹的不同切换为位置控制模式和力矩控制模式，在位置控制模式时，抛光轮只进行位移，在力矩控制模式时，抛光轮通过Z轴控制抛光轮与工件的相对位置来保证Z轴力矩保持在恒定的范围内，达到恒压抛光。该方法极大地简化了控制过程，大幅缩短了设备研发周期，降低了研发成本。

主权项

1.一种恒压抛光的方法，应用于数控系统，其特征在于，数控系统为三轴控制系统，包括X轴、Y轴、Z轴，其恒压抛光的方法包括以下步骤：1)将待加工工件的加工轨迹分为抛光段和非抛光段，预设抛光轮的抛光高度和非抛光高度，抛光轮初始位置在非抛光高度，抛光轮由X轴和Y轴驱动到工件的抛光段上方，Z轴驱动抛光轮切换到抛光高度，数控系统进入力矩控制模式；2)在力矩控制模式下，控制系统通过控制Z轴改变抛光轮与工件的相对位置以保持Z轴的力矩在恒定范围内，控制x轴和Y轴驱动抛光轮沿抛光段加工轨迹移动，直到完成抛光段的加工，Z轴驱动抛光轮回到非抛光高度，数控系统切换到位置控制模式；3)在位置控制模式下，数控系统通过控制X轴和Y轴驱动抛光轮移动完成非抛光段的控制，直到进入下一个抛光段，Z轴驱动抛光轮切换到抛光高度，数控系统进入力矩控制模式；4)回到步骤2)，循环步骤2)和步骤3)，直到完成设定的工件的加工。