[发明专利]土壤及地下水原位单轴大直径注药搅拌修复系统及方法有效

专利信息
申请号: 201810088753.0 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108360502B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 郭星宇;王蓉;宋晓光;张亚娇;李韬;宣霖康 申请(专利权)人: 上海勘察设计研究院(集团)有限公司
主分类号: E02D3/12 分类号: E02D3/12
代理公司: 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 代理人: 黄明凯;徐小蓉
地址: 200092*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种土壤及地下水原位单轴大直径注药搅拌修复系统及方法,该注药搅拌修复系统包括具有液压步履式底架和钻杆的搅拌钻机,所述钻杆下端部具有搅拌喷射头,所述液压步履式底架自下而上依次包括横向步履、下底架以及上底架,所述横向步履与所述下底架之间在横向上可滑动式接触,所述下底架与所述上底架之间在纵向上可滑动式接触。本发明的优点是:修复系统构成简单、移动方便、即到即做;修复系统通过搅拌喷射钻头搅碎土壤并与其上所喷射出的药剂进行充分混合,二喷二搅即可实现药剂与水土充分混合均匀,避免了高压旋喷压力难以保证及高压喷入药剂沿杂填土缝隙渗流,没有与土壤充分混合的弊端。
搜索关键词: 土壤 地下水 原位 单轴大 直径 搅拌 修复 系统 方法
【主权项】:
1.一种土壤及地下水原位单轴大直径注药搅拌修复系统,其特征在于所述注药搅拌修复系统包括具有液压步履式底架和钻杆的搅拌钻机,所述钻杆下端部具有搅拌喷射头,所述液压步履式底架自下而上依次包括横向步履、下底架以及上底架,所述横向步履与所述下底架之间在横向上可滑动式接触,所述下底架与所述上底架之间在纵向上可滑动式接触。
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