[发明专利]一种硼酸结晶去除剂及其应用在审
| 申请号： | 201810083755.0 | 申请日： | 2018-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN110093215A | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 邬强;崔向前;金卫阳;胡忠良;王厉秦都;张晶;付东彪;王建刚 | 申请（专利权）人： | 中国辐射防护研究院 |
| 主分类号： | C11D1/22 | 分类号： | C11D1/22;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;C11D11/00;C11D17/00;B08B3/02;G21D1/00 |
| 代理公司： | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 任晓航;周敏毅 |
| 地址： | 030006 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明属于工业去污技术领域，涉及一种硼酸结晶去除剂及其应用。所述的硼酸结晶去除剂包含水、氢氧化钠、甘油和阴离子表面活性剂。所述的应用是将所述的硼酸结晶去除剂应用在轻水堆核电站中硼酸结晶的去除。利用本发明的硼酸结晶去除剂，不仅可以在常温下快速、高效溶解硼酸结晶，而且可适用于各种复杂环境，并尤其适用于轻水堆核电站中硼酸结晶的去除。 | ||
| 搜索关键词： | 硼酸结晶 去除剂 轻水堆核电站 应用 去除 阴离子表面活性剂 复杂环境 氢氧化钠 常温下 甘油 去污 溶解 | ||
【主权项】：
1.一种硼酸结晶去除剂，其特征在于：所述的硼酸结晶去除剂包含水、氢氧化钠、甘油和阴离子表面活性剂。
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