[发明专利]一种化学机械抛光垫在审
| 申请号： | 201810074107.9 | 申请日： | 2018-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108214285A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 相红旗 | 申请（专利权）人： | 成都时代立夫科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 李春芳 |
| 地址： | 610207 四川省成都市双*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光垫，包括抛光层和衬底层，所述抛光层通过双面胶带层粘合在衬底层的上表面，所述抛光层从圆心到圆周设置多个同心圆槽，所述同心圆槽由分离圆槽分成内侧区域和外侧区域两部分，所述内侧区域还设置有径向槽，所述径向槽可为直线槽、曲形槽或者螺旋形槽等；解决了现有技术化学机械抛光垫在使用过程中出现的抛光废屑沉积导致抛光液表面输送和分布受到不良影响的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光层 内侧区域 同心圆槽 衬底层 径向槽 化学机械抛光垫 化学机械抛光 圆心 机械抛光 技术化学 螺旋形槽 双面胶带 外侧区域 圆周设置 抛光 抛光液 曲形槽 上表面 直线槽 粘合 废屑 圆槽 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光垫，包括抛光层(1)和衬底层(2)，所述抛光层(1)通过双面胶带层(3)粘合在衬底层(2)的上表面，其特征在于，所述抛光层(1)从圆心到圆周设置多个同心圆槽(4)，所述同心圆槽(4)由分离圆槽(7)分成内侧区域(5)和外侧区域(6)两部分，所述内侧区域(5)还设置有径向槽(8)，所述径向槽(8)为直线槽、曲形槽或者螺旋形槽。
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